光面爆破，就是控制爆破的作用范圍和方向，使爆破后巖面光滑平整，防止巖石開裂，減少超、欠挖和支護工作量，增加巖壁的穩(wěn)定性，減少爆破對保留巖體的破壞作用，進而達到控制巖體開挖輪廓的一種技術。
 
　　一、應用范圍及其特點和優(yōu)缺點
 
　　1．應用范圍
　　光面爆破廣泛應用于地下工程，如巷道開挖，大型隧道、公路、鐵路隧道及構筑地下工事等，為保證巖壁平整，巖體完整，保持其穩(wěn)固性。另外，露天礦邊坡，公路、鐵路邊坡等，均常采用光面爆破技術。
　　2．特點
　　它與預裂爆破的不同之處是：它在主炮孔爆破之后進行，有兩個自由面。
　　3．優(yōu)缺點
　　主要優(yōu)點是：對圍巖的破壞輕微，只有普通爆破的1／2～1／3，從而提高了圍巖的穩(wěn)定性；可以大大地減少巷道及邊坡的超、欠挖，提高施工質量，加快施工進度，節(jié)省大量的支護材料和支護工作量；圍巖壁平整，危石少，撬頂工作或邊坡危石處理簡單，可避免局部冒頂或局部滑坡的危險。其主要缺點是：鉆孔工作量大量增加，使用的起爆器材增加，裝藥工作量增加，因此爆破費用大大增加。
 
　　二、光面爆破參數(shù)
 
　　為獲得良好的光面效果，一般選用低密度、低爆速、低體積的炸藥，以減少炸藥爆轟波的擊碎作用和延長爆轟氣體的膨脹作用時間。最好是選用光面爆破專用藥卷，以提高裝藥速度并能獲得預期光面效果。
　　1．孔徑與孔距
　　光面爆破的炮孔直徑可與主炮孔的直徑相同，若為淺孔爆破，其孔徑一般為38～42mm，若為中深孔爆破，一般為80～160mm。孔間距為主炮孔孔距的1／2～1／3。
　　2．與鄰近主炮孔的排距
　　一般為正常炮孔排距的1／2。
　　3．光爆孔深度
　　比主爆破超深，h＝(0．1～0．2)L，L為主爆孔深度。
　　4．最小抵抗線
　　光爆炮孔中心到鄰近主爆孔中心的距離為最小抵抗線，一般應大于或等于光爆孔間距。
　　5．炮孔臨近系數(shù)
　　也叫密集系數(shù)m，即孔間距與抵抗線之比：m＝a/ω，當m過大時，爆破后，可能在光爆眼間留下巖埂，造成欠挖。當m過小時，則會在新壁面造成超挖凹坑。實踐表明，當m＝0．8～1．0時，爆后的光面效果最好。
　　6．線裝藥密度
　　又叫裝藥集中度，它是指單位長度炮眼中裝藥量的多少(g／m)。為了控制裂隙的發(fā)育，在保證新壁面的前提下，應盡量減少裝藥量。一般線裝藥密度如下：軟巖為70～120g／m，中硬巖為100～150g／m，硬巖為150～250g／m。
　　7．不偶合系數(shù)
　　不偶合系數(shù)k是指炮孔直徑d與藥卷直徑d0之比：
k＝d／d0
　　不偶合系數(shù)是大于1，表示炮孔直徑與藥卷直徑不偶合，藥卷與炮孔之間有間隙，k越大，則空隙越大。大量實踐證明，k≥2～2．5時，光爆效果最好。大部分情況下，選用k＝1．5～2．5。
　　8．起爆間隔時間
　　實踐證明，齊發(fā)起爆的裂隙面最平整，毫秒延期起爆次之，秒延期起爆最差。所以在實施光面爆破時，間隔時間越短，壁面越平整。最好選用導爆索起爆，其瞬時性最好。若用雷管起爆，間隔時間不應超過100ms。
 
　　三、光面爆破的質量要求
 
　　1．半邊孔保留率也叫眼痕率，硬巖不小于80％，中硬巖不小于60％。
　　2．軟巖中的巷道或露天爆破的邊坡應符合設計要求。
　　3．兩炮銜接臺階尺寸，眼深小于3m時，不得大于150mm；眼深為5m時，不得大于250mm。
　　4．巖面不應有爆震裂縫。
　　5．巷道周邊不應欠挖，平均線性欠挖值應小于200mm。